高纯锑化镓单晶片

¥2,500.00

  • 型号:
  • 商品库存: 有现货

- +

 

高纯锑化镓单晶片 GaSb晶圆 本征/Te掺杂N型/Zn掺杂P型 单双面抛光 <100><111>晶向 中长波红外探测激光外延衬底 高频晶体管热光伏器件 科研实验可定制尺寸

一、产品简介

本款锑化镓(GaSb)单晶片为高品质III-V族化合物半导体基材,采用**垂直梯度凝固法(VGF)/液封直拉法(LEC)** 先进工艺生长原生单晶锭,经无尘车间精密切片、精密研磨、CMP化学机械超镜面抛光精制而成。产品严格管控晶体位错密度、晶格均匀性、厚度公差与表面洁净度,无崩边、无划痕、无晶格缺陷,可直接用于外延生长、光刻镀膜、精密器件制备。
锑化镓是核心**窄带隙直接带隙半导体材料**,300K室温禁带宽度0.72eV,完美适配1.7–5μm中长波红外波段,具备高空穴迁移率、高量子效率、优异的晶格匹配性与热稳定性,是硅、砷化镓无法替代的**中红外光电、高频微电子、热光伏器件**专用衬底。广泛应用于非制冷红外焦平面探测、中红外激光器、高频晶体管、航天军工光电系统、新能源热光伏电池,覆盖高校科研实验、企业工艺调试、工业规模化量产全场景。

二、核心材质与工艺优势

生长工艺:采用VGF垂直梯度凝固工艺为主、LEC工艺为辅,晶体生长应力极低、完整性优异、位错密度小、晶格均匀性极佳,有效规避常规单晶的晶格畸变与缺陷问题,适配高精度外延、多量子阱薄膜沉积、精密光刻蚀刻制程,大幅提升器件良率。
晶体结构:标准闪锌矿立方单晶结构,晶格常数0.61315nm,晶格匹配性优异,可与多种III-V族三元、四元合金材料完美匹配,是制备二类超晶格红外器件的核心基底,适配各类锑化物外延工艺。
核心性能:具备超高载流子迁移率、高饱和漂移速度,高频传输性能优异;热导率稳定、热损耗低、击穿电场强度高,机械性能均衡;光电响应灵敏、量子效率高,专为中长波红外光电器件、超高频微电子器件量身打造,抗干扰、稳定性强。
精密加工:全程百级无尘车间加工,精密切片、均匀双面研磨、0.3–0.5mm圆弧防护倒角、CMP超镜面抛光,表面粗糙度极低、平整度优异、无麻点无划伤,表面洁净度达标,可直接用于各类精密半导体深加工工艺。

三、核心规格参数(选购核心)

1、导电类型 & 掺杂特性(全品类现货)

本征/非掺GaSb(高纯科研级):超高纯无掺杂,电性均匀、晶体缺陷极少、应力极低,光电性能无杂质干扰,适用于基础半导体科研、光学性能测试、特种精密探测器研发。
N型锑化镓(Te碲掺杂):载流子浓度可控、迁移率高、高频导电性能稳定,适配高频晶体管、高速微电子器件、红外光电转换器件制备,是高频电路核心衬底材料。
P型锑化镓(Zn锌掺杂):P型导电特性稳定,PN结制备精度高,光电转换效率优异,广泛用于中红外激光二极管、红外探测器芯片、热光伏电池、超晶格光电器件。

2、标准晶向

现货主流晶向:<100>、<111>,定向精度±0.5°;支持定制2°/4°/6°外延偏角晶向,完美适配GaSb、InAs、AlSb等锑化物外延生长与多量子阱制备工艺。

3、现货尺寸规格(方形片/圆形晶圆全覆盖)

方形单晶片(科研试样/实验调试常用)

尺寸:5×5mm、10×10mm、15×15mm、20×20mm、25×25mm 厚度:0.2mm、0.35mm、0.5mm、1.0mm、2.0mm,厚度公差±20μm,支持任意非标尺寸切割定制

圆形标准晶圆(工业量产/外延工艺常用)

尺寸:2英寸(50.8mm)、3英寸、4英寸(工业主流) 常规厚度:350μm、500μm、625μm、650μm、700μm,厚度均匀性优异,适配全自动晶圆切割、镀膜、光刻量产设备

4、表面工艺可选

单抛(SSP):单面超镜面抛光、背面精细磨砂研磨,性价比高,满足科研试样、基础性能测试、工艺调试、实验预处理需求。
双抛(DSP):双面超镜面抛光,无应力、无缺陷、超低粗糙度,表面平整度达标外延级标准,是高端外延生长、精密光刻、真空镀膜、量产光电器件的首选。
研磨毛坯片:双面磨砂未抛光,适合二次切割、定制打磨、低成本实验、工艺摸索与预处理试验。
工艺细节:全系产品统一精密圆弧倒边处理,杜绝崩边、裂边、掉粉问题,适配精密设备夹持、自动化加工与多层外延工艺。

四、产品核心优势

中红外波段专属基材:精准覆盖1.7–5μm中长波红外核心波段,光电响应灵敏、量子效率高,是二类超晶格非制冷红外焦平面器件的不可替代衬底,适配民用红外成像、军工红外探测全场景。
高频性能优异:空穴迁移率远优于传统半导体材料,高频信号传输损耗极低、响应速度快,可满足超高频晶体管、微波射频器件的制备需求,适配高频微电子领域研发量产。
晶格匹配性极佳:独特的晶格参数可与多种锑化物、III-V族合金材料完美匹配,大幅降低外延生长晶格失配率,减少器件缺陷,显著提升光电器件成品良率与稳定性。
工况稳定性强:热稳定性好、击穿电场强度高、抗辐射、耐高低温,可长期稳定工作在航天、军工、户外精密设备的严苛工况,适配高端特种器件制备。

发表评论

注意 评论内容不支持HTML代码!
差评 好评

标签 高纯锑化镓单晶片