锗单晶采用直拉法(CZ)/VGF 垂直梯度凝固法原生单晶锭线切研磨加工,遵循国标 GB/T5238-2019 生产,分光学级、外延半导体级、超高纯探测级三大品级,银灰色金属光泽晶体,是红外光学、半导体芯片、航天光伏、光电探测、实验室科研核心基材。
导电类型 & 掺杂
非掺高阻 Ge:ρ>35Ω・cm,本征锗,红外光学首选
N 型锗(掺锑 Sb):电阻率 0.01~40Ω・cm,高速器件、光电阴极
P 型锗(掺镓 Ga):电阻率 0.005~35Ω・cm,PN 结、太阳能叠片衬底
标准晶向:<100>、<111>、<110>,定向精度 ±0.5°;可定制 4°/6°/9° 偏角晶向
尺寸现货(方形 / 圆形晶圆均可)
方片:5×5、10×10、15×15、20×20、25×25mm;厚度:0.3/0.5/1.0/2.0mm
圆片晶圆:1 英寸、2 英寸 (50.8mm)、3 英寸、4 英寸、6 英寸;常规厚度 500μm、625μm、725μm,厚度公差 ±25μm
标签 锗单晶晶体晶片

